G3商讯： 无锡市美净水处理设备有限公司长期致力于超纯水设备、去离子水设备、
纯化水设备、食品饮用水设备的研发、制造及工程施工。
超纯水器制备超纯水的原理和步骤大体如下：
1.原水：可用自来水或普通蒸馏水或普通去离子水作原水。
2.机械过滤：通过砂芯滤板和纤维柱滤除机械杂质，如铁锈和其他悬浮物等。
3.活性炭过滤：活性炭是广谱吸附剂，可吸附气体成分，如水中的余氯等;吸附细菌和某些过滤金属等。能损害反渗透膜，因此应力求除尽。
4.反渗透膜过滤：可滤除95%以上的电解质和大分子化合物，包括胶体微粒和病毒等。出于绝大多数离子的去除，使离子交换柱的使用寿命大大延长。
5.紫外线消解：借助于短波(180nm-254 nm)紫外线照射分解水中的不易被活性炭吸附的小有机化合物，如甲醇、乙醇等，使其转变成CO2和水，以降低TOC的指标。
6.离子交换单元：已知混合离子交换床是除去水中离子的决定性手段。借助于多级混合床获得超纯水也并不困难。但水的TOC指标主要来自树脂床。因此高质量的离子交换树脂就成为成功的关键。所谓高质量的树脂，就是化学稳定性特别好，不分解，不含低聚物、单体和添加剂等的树脂。所谓“核工业级树脂”大概就属于这一类树脂。对树脂的要求是质量越高越好。可惜国内很少有人在这方面下功夫，满足于生产大路线。
7.0.2μm滤膜过滤，以除去水中的颗粒物道每毫升1个(小于0.2μm的口经过上述各步骤处理后生产出来的水就是超纯水了。应能满足各种仪器分析，高纯分析，痕量分析等的要求，接近或达到电子级水的要求。
纯水系统板式换热器的清洗：
1)清除换热器流道中的脏物或板片结垢，对于新运行的系统，根据实际情况每周清洗一次。清洗板片表面水垢(主要指CaCO3。)时，选用含0.3 磺酸溶液或含0.3 乌洛托平、0.2 苯胺、0.1硫氰酸钾的0.8 溶液作为清洗液，清洗温度4O～6O℃。不拆卸设备化学浸泡清洗时，要打开换热器冷介质进、出口，或安装设备时在介质进、出口接管上安装DN25清洗口，将配好的清洗液注入设备中，浸泡后用清水清洗干净残留酸液，使pH≥7。拆开清洗时，将板片在清洗液中浸泡30 min，然后用软刷轻刷结垢，最后用清水清洗干净。清洗过程中应避免损伤板片与橡胶垫。若采用不拆卸机械反冲洗方法，应事先在介质进、出口管路上接一管口，将设备与机械清洗车连接，把清洗液按介质流动的反方向注入设备，循环清洗时间1O～1 5 min，介质流速控制在0.05～0.15 m/s。最后再用清水循环几遍，使清水中Cl质量浓度控制在25 mg/I 以下。
2)二次循环水最好采用经过软化处理后的软水，一般要求水中悬浮物质量浓度不大于5 mg/L、杂质直径不大于3 mm、pH≥ 7。当水温不大于95℃时，Ca 、Mg 浓度应不大于2 mmol/L;当水温大于95℃ 时，Ca 、Mg 浓度应不大于0.3 mmol/L、溶解氧质量浓度应不大于0.1 mg/L。
超纯水应用范围：
① 动、植物细细胞培养用水
② 各种医疗用生化仪、分析仪、血液透析仪用水
③ 分析试剂及药品配置稀释用水
④ 生理、病理、毒理学实验用水
⑤ 医院、医药制剂室及中心实验室用纯化水和高纯水
⑥ 原子吸收光谱用水
⑦ 试管婴儿用水
⑧ 各种高效液相色谱、离子色谱用水
⑨ 其他各种实验室用水和医药用水。
⑩在半导体中的应用：半导体原材料生产加工、检测和半导体器件的制备用水。
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